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南京浦口举办国际先进光刻技术研讨会

发布日期: 2020-08-21

浦口举办国际先进光刻技术研讨会  

南报网讯 (记者 鲁舒婷 通讯员 林静) 10月17日,第三届国际先进光刻技术研讨会在浦口召开。来自中国、美国、德国、日本等世界各地众多名企、厂商、科研机构、高校的共计400余技术专家和研究人员参加了本次会议。 

作为国内唯一的高端光刻技术研讨会,国际先进光刻技术研讨会已连续举办两届,已经成为共享国内外先进光刻技术研发和成果、为我国集成电路制造研发与应用开展合作与交流的高端峰会议。会上,来自Intel、IBM、ASML、Mentor等公司的特邀嘉宾分别围绕主题做了特邀报告,深入分析了光刻领域先进节点最新的技术手段和解决方案,包括7nm及以下先进节点的计算光刻技术、光刻设备、材料等。 

近年来,随着集成电路产业的蓬勃发展,我国在EUV光源、多层膜、掩膜、光刻胶、超光滑抛光技术等方面取得了一些研究进展,但光刻技术方面仍与国外有着较大差距。“要不断通过政策支持和体制创新,才能推动我国集成电路产业发展达到一个新的高度。”与会专家纷纷表示。 

目前,南京已明确了集成电路产业的总体布局:即 “一核、两翼、三基地”。其中“一核”即指以江北新区为核心,重点打造具有国际影响力的集成电路产业基地。而浦口区便是这“一核”的重要载体,已集聚了总投资30亿美元的台积电、800亿元的清华紫光、80亿元的天水华天等产业链上下游关联企业169家,初步形成了设计、制造、封装、测试的全产业链闭环,成功创建“江苏省集成电路产业基地”。